2026年中國濺射靶材市場規(guī)模及重點企業(yè)預測分析（圖）

中商情報網(wǎng)訊：濺射靶材是指通過磁控濺射等鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應用于半導體集成電路、平面顯示、太陽能電池、信息存儲、低輻射玻璃等領域，是國家重點支持和鼓勵發(fā)展的行業(yè)。

市場規(guī)模

中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030年中國濺射靶材行業(yè)前景與市場趨勢洞察專題研究報告》顯示，2025年中國濺射靶材市場規(guī)模約為33.65億元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預測，2026年中國濺射靶材市場規(guī)模將增至38億元。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

重點企業(yè)分析

總體來看，中國濺射靶材龍頭企業(yè)已形成差異化與平臺化并進的產(chǎn)業(yè)格局。第一梯隊企業(yè)如江豐電子、有研新材等，憑借在超高純金屬材料領域的深厚積累，已成功切入全球半導體先進制程供應鏈，并積極向半導體精密零部件等關聯(lián)領域拓展，構(gòu)建平臺化競爭力。第二梯隊企業(yè)則在顯示面板、光伏、光學等細分市場建立優(yōu)勢，并通過產(chǎn)品多元化布局新興賽道以對沖行業(yè)周期。整體行業(yè)正從單一材料供應商向提供“材料+工藝解決方案”的綜合服務商轉(zhuǎn)型，國產(chǎn)化替代與向高附加值領域延伸成為共同的發(fā)展主線。

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理