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              加大投資ArF高端光刻膠 彤程新材半年凈利同比增加31.7%

              2021-08-17 來源:彤程新材
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              關鍵詞: ArF 高端光刻膠 彤程新材

              彤程新材8月16日晚間發布2021年半年度報告,公司上半年實現營業收入11.72億元,同比增長24.30%;實現歸屬于上市公司股東的凈利潤2.37億元,同比增長31.72%;實現歸屬于上市公司股東的扣除非經常性損益的凈利潤1.87億元,同比增長7.31%。


              報告期內,公司管理層圍繞年初制定的經營計劃,提升原有業務產能,優化業務結構,積極 研發創新,保持了公司整體業務穩定增長,并取得了良好的經營成果。2021 年上半年營業收入 同比增長 24.3%,且投資收益也有相應增長,故 2021 年上半年歸屬于上市公司股東的凈利潤較上 年同期增長 31.72%。同時公司緊抓銷售,加大回款力度,經營活動產生的現金流量較上年同期 提高 422.24%。


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              報告顯示,公司通過產業鏈橫向和縱向延伸,產品進一步多元化、成本優勢凸顯,在持續夯實原有客戶合作基礎上,進一步擴大全球市場占有率,通過與產業上下游協作,在產品開發、市場服務、功能品質提升等全方位建立圍繞客戶需求的長期多元化合作模式。


              在半導體光刻膠的研發、生產及銷售方面,公司旗下半導體光刻膠生產企業--北京科華,產 品應用領域涵蓋集成電路(IC)、發光二極管(LED)、分立器件、先進封裝、微機電系統(MEMS) 等,產品覆蓋 KrF(248nm)、G/I 線(含寬譜)、Lift-off 工藝使用的負膠,用于分立器件的 BN、BP 系列正負性膠等類型。其中 G 線光刻膠市場占有率超過 60%;I 線光刻膠和 KrF 光刻膠是國內 8-12 寸集成電路產線主要的本土供應商。公司能夠滿足主流半導體公司在8 寸、12 寸線的需求, 并持續推進 KrF、高分辨 I 線光刻膠等高端光刻膠的國產化替代進程。北京科華申報的“12 英寸光 刻膠國產化量產應用”獲集成電路材料創新聯盟主辦的首屆集成電路材料獎“最佳合作獎”、 “KMPDK1089深紫外正性光刻膠”產品獲得中國國際高新技術成果交易會組委會主辦的第二十二屆 中國國際高新技術成果交易會優秀產品獎等。


              在顯示面板光刻膠方面,公司旗下顯示面板光刻膠生產企業--北旭電子是中國大陸第一家 TFT-LCDArray 光刻膠本土生產商,也是國內最大的液晶正性光刻膠本土供應商,其產品在國內最大面板客戶京東方的 占有率超 45%,國內市場占有率近 20%,全球市場占有率約 9%,隨著積極推進國內面板其它頭 部客戶導入測試以及 Halftone 產品的突破,市場份額還將進一步提升。



              另外,彤程新材發布公告表示,根據公司發展戰略,進一步深化公司在電子材料領域的業務布局,彌補國內光刻膠技術與全球先進水平的差距,研究ArF光刻膠,特別是193nm濕法光刻膠的工業化生產技術,確定193nm光刻膠工程化放大技術、標準的生產流程及質量管控體系,研發生產光刻膠高端產品。


              公司從實際生產經營需求出發,決定通過公司全資子公司-上海彤程電子材料有限公司(以下簡稱“彤程電子”)在上海化學工業區內使用自籌資金人民幣6.9853億元,投資建設“ArF高端光刻膠研發平臺建設項目”,項目預計于2023年末建設完成。


              據其介紹,ArF光刻膠工業化生產開發主要涉及的內容包括:

              (1)193nm光刻膠生產過程中的微小顆粒的控制技術,研究0.15μm及以下顆粒在精細化生產過程中的控制技術;

              (2)193nm光刻膠中痕量金屬離子雜質的控制技術,從原料、生產設備及生產工藝等環節入手研究ppb/ppt級別的金屬離子含量控制技術,以及國產化原料及裝備的可替代性;

              (3)對光刻膠的作用機理進行研究,通過對缺陷的檢測發現及成因分析,提高193nm光刻膠生產批次穩定性控制技術。

              其強調 :193nm(ArF)高端光刻膠產品的開發技術難度大、質量要求高,產品基本掌握在國外專業廠商手中。本項目計劃引進高端專業技術團隊,負責關鍵配方研制、關鍵應用技術開發、質量管控及產品生產。同時充分利用公司多年在集成電路配方型功能性化學材料開發和應用方面所積累和擁有的技術經驗,與引進技術團隊充分配合協作,確保本項目開發成功。



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