而使用這種EUV光罩保護膜后，在使用EUV光刻機進行芯片的生產(chǎn)時，有望顯著提高生產(chǎn)芯片的良率。
一時之間，引發(fā)無數(shù)人的關(guān)注，畢竟良率現(xiàn)在是懸在臺積電、三星等晶圓廠身上的利劍，并且是工藝越先進，良率越低。
比如之前就有媒體報道稱，三星的5nm、4nm工藝，其良率低到離譜，甚至只有30%左右，讓高通都受不了了，不得不轉(zhuǎn)單臺積電。
而一旦能夠大幅度提升良率了，像三星這樣的晶圓廠豈不是求著買？提升良率就是降低成本，提升競爭力啊。
那么問題來了， 石墨烯EUV光罩保護膜到底是什么膜，為何會有這個效果？
我們知道，在芯片制造中，EUV光刻機的作用是將光掩膜板上的電路圖，通過EUV光線，刻錄到涂了光刻膠的硅晶圓上。
這是至關(guān)重要的一部分，光掩膜板也是芯片流片中最貴的一部分，一個7nm的光掩膜板成本迅速升至1500萬美元。
而光掩膜板上面，有一層保護膜，保護光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響，以及保護當EUV光線刻錄時帶來的影響。
以有這層膜用的是硅材料制造的，現(xiàn)在韓企用的是石墨烯來制造這次保護膜，也就是石墨烯EUV光罩保護膜。
石墨烯性能更好，能承受更高的溫度，同時有更高的硬度，更佳的透度，所以當EUV光線進行光刻時，能夠降低誤判，從而提升良率。
Graphene Lab表示，他們的這種石墨烯EUV光罩保護膜很快就會量產(chǎn)，如果真的這么神奇，那么像三星、臺積電、intel等廠商肯定會搶著要，那當前的光罩保護膜市場，甚至晶圓市場格局都可能會因此而改寫。
