三星自研EUV光罩保護膜透光率已達90%
據韓國媒體Business Korea報導，三星電子DS部門研究員Kang Young-seok表示，三星使用的EUV光罩保護（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已達90%，計劃將進一步提高至94-96%。
據了解，光罩保護膜是一種薄膜，可保護EUV光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響，這對于 5nm或以下節點制程的先進制程技術的良率表現至關重要。另外，光罩保護膜也是一種需要定期更換的消耗品，而由于 EUV光刻設備的光源波長較短，因此保護膜需要較薄厚度來增加透光率。其中，透光率90%的意思是只有90%進入薄膜的光線能到達光罩，這可能會影響電路圖案的精度。
三星今年初聲稱已開發出透光率達88%的EUV光罩保護膜，且這款產品已經可以量產，而Kang表示三星EUV保護膜透光率再度增加到了90%。這比更常見的氟化氬（ArF）制程中使用的薄膜透光率（99.3%）要低。
當EUV光罩保護膜在250瓦光源下操作時，每平方公分會產生的5瓦熱量，導致溫度高達680℃以上，因此除了降低光源衰退外，還必須解決光罩護膜在EUV過程中遇到的翹曲或斷裂等散熱問題。
據報導，三星已經在主要客戶的部分先進EUV代工生產線上導入了EUV光罩護膜。雖然三星也在DRAM生產線中采用EUV制程，但考慮到生產率和成本，該公司認為即使沒有光罩護膜也可以進行內存量產。
目前光罩保護膜主要供應商是荷蘭ASML，日本三井化學、信越化學，韓國S&S Tech、FST等。
據Kang透露，三星并沒有使用韓國國內供應商提供的EUV光罩護膜，而是與日本三井化學合作，為唯一供應商。
雖然FST和S&S Tech等韓國公司正積極開發EUV光罩護膜，但還沒實現量產。相比之下，臺積電早在2019年開始使用自行開發的光罩保護膜，并已在7nm以下制程的生產線使用。2021 年宣布產能比2019 年提高了20 倍。
